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[차세대 고분자 박막 기반 표면기술연구회] iCVD 기반 고분자 박막을 통한 소재 표면 기능화 전략 워크샵 (행사일: 2월 24일)
작성자관리자
작성일2026.02.02
조회수90
안녕하세요.
차세대 고분자 박막 기반 표면기술연구회에서 개최하는 “iCVD 기반 고분자 박막을 통한 소재 표면 기능화 전략” 워크샵을 안내드립니다.
• 일시: 2026.02.24(화) 13:00–17:50
• 장소: KAIST 학술문화관 양승택 오디토리움(2층) / 온라인 병행(Zoom)
• 온라인 참석: https://kaist.zoom.us/j/82886413736?pwd=QJDkYCaYbKBZiMzSkDCwlCPhy2sNTT.1 회의 ID: 828 8641 3736 / 암호: 177471
본 워크샵에서는 iCVD 공정 원리 및 주요 제어 인자를 중심으로, 표면개질·바이오·전자소자·반도체/패키징 응용까지 다양한 분야의 발표가 준비되어 있습니다.
자세한 프로그램은 첨부된 flyer를 참고 부탁드립니다.
원활한 행사 준비를 위해 참석자 조사(RSVP)를 진행하고 있습니다.
가능하시면 아래 링크를 통해 RSVP 작성을 부탁드립니다.
• RSVP 링크: https://docs.google.com/forms/d/e/1FAIpQLSe53Tgp3OSOQ5UDKv0K7oz34YXBh66jVeG3nD1h-4hRJBnm-w/viewform?usp=dialog
감사합니다.
차세대 고분자 박막 기반 표면기술연구회에서 개최하는 “iCVD 기반 고분자 박막을 통한 소재 표면 기능화 전략” 워크샵을 안내드립니다.
• 일시: 2026.02.24(화) 13:00–17:50
• 장소: KAIST 학술문화관 양승택 오디토리움(2층) / 온라인 병행(Zoom)
• 온라인 참석: https://kaist.zoom.us/j/82886413736?pwd=QJDkYCaYbKBZiMzSkDCwlCPhy2sNTT.1 회의 ID: 828 8641 3736 / 암호: 177471
본 워크샵에서는 iCVD 공정 원리 및 주요 제어 인자를 중심으로, 표면개질·바이오·전자소자·반도체/패키징 응용까지 다양한 분야의 발표가 준비되어 있습니다.
자세한 프로그램은 첨부된 flyer를 참고 부탁드립니다.
원활한 행사 준비를 위해 참석자 조사(RSVP)를 진행하고 있습니다.
가능하시면 아래 링크를 통해 RSVP 작성을 부탁드립니다.
• RSVP 링크: https://docs.google.com/forms/d/e/1FAIpQLSe53Tgp3OSOQ5UDKv0K7oz34YXBh66jVeG3nD1h-4hRJBnm-w/viewform?usp=dialog
감사합니다.
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